一种超疏水自清洁透明超薄涂层的制备方法和该涂层的应用2025
- 申请专利号:CN202410065588.2
- 公开(公告)日:2025-02-28
- 公开(公告)号:CN117904597A
- 申请人:哈尔滨工业大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117904597 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202410065588.2 H02S 40/10 (2014.01) H01L 31/18 (2006.01) (22)申请日 2024.01.17 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 吴晓宏 胡玉莲 康红军 李杨 卢松涛 秦伟 洪杨 (74)专利代理机构 哈尔滨市阳光惠远知识产权 代理有限公司 23211 专利代理师 王芳 (51)Int.Cl. C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/56 (2006.01) H01L 31/0216 (2014.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种超疏水自清洁透明超薄涂层及其制备 方法和应用 (57)摘要 本发明公开了一种超疏水自清洁透明超薄 涂层及其制备方法和应用,属于功能材料制备技 术领域。本发明首先利用原子层沉积技术在基底 表面制备一层Al O 薄膜,然后采用刻蚀方法在 2 3 Al O 涂层表面
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