一种薄膜材料样品的高通量制备装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116334573 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310341059.6 (22)申请日 2023.03.31 (71)申请人 北京航空航天大学 地址 100083 北京市海淀区学院路37号 (72)发明人 祝薇　韩广宇　邓元　郭思铭　 (74)专利代理机构 北京中慧创科知识产权代理 事务所 (特殊普通合伙) 11721 专利代理师 由元 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/30 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种薄膜材料样品的高通量制备装置 (57)摘要 本发明提供一种薄膜材料样品的高通量制 备装置，包括：壳体、材料释放装置、基台、固定掩 膜板和活动掩膜板；材料释放装置设置在壳体的 内腔中 ，用以向内腔中释放沉积材料的气相原 子，基台具有位于在内腔中的承接面 ；固定掩膜 板固定连接在承接面上，在固定掩膜板上设置有 轴线与承接面的沉积孔，活动掩膜板体贴合在固 定掩膜板的背对基台的表面上，在活动掩膜板上 设置有能够与沉积孔相对应的流通孔，内腔中的 气相原子能够通过流通孔进入沉积孔中，并在沉 积孔