一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116240550 A (43)申请公布日 2023.06.09 (21)申请号 202310253838.0 (22)申请日 2023.03.16 (71)申请人 华海清科股份有限公司 地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴 道11号 申请人 清华大学 (72)发明人 张力飞　王同庆　路新春　 (51)Int.Cl. C23F 3/06 (2006.01) G09G 1/02 (2006.01) H01L 21/306 (2006.01) 权利要求书1页 说明书12页 附图4页 (54)发明名称 一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机 械抛光方法 (57)摘要 本发明提供了一种用于化学机械抛光的抛 光液及化学机械抛光方法 ，所述抛光液包括磨 料、氧化剂、缓蚀剂、络合剂和水；其中，所述缓蚀 剂包括1 ,2,4‑三氮唑、油酸钾或1‑苯基‑5‑巯基 四氮唑中的任意一种或至少两种的组合。本发明 在抛光液中加入特定组分和浓度的缓蚀剂，使得 Cu/Co的抛光速率选择比处于可调状态，用以降 低表面腐蚀、提高金属表面平坦化质量，防止抛 光过程中造成表面粗糙、碟形和腐蚀坑等缺陷的 出现。 A 0 5 5 0 4 2 6 1 1 N C CN 116240550 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种用于化学机械抛光的抛光液