一种双面光刻机

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113835312 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202111284460.8 (22)申请日 2021.11.01 (71)申请人 四川鸿源鼎芯科技有限公司 地址 610199 四川省成都市龙泉驿区龙泉 车城东七路360号行政中心一楼3号 (72)发明人 张其文　扶小莲　刘阳波　陈正洪　 (74)专利代理机构 成都信捷同创知识产权代理 事务所(普通合伙) 51323 代理人 左正超 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) B25J 15/06 (2006.01) B25J 9/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图7页 (54)发明名称 一种双面光刻机 (57)摘要 本发明属于光刻机技术领域，公开了一种双 面光刻机，机架上设有第一机械臂，第一机械臂 的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、曝 光工位和下料工位，上料工位处设有上料盒，预 对位工位处设有预对位装置，曝光工位处设有工 件台和曝光机构，下料工位处设有下料盒。本发 明所提供的一种双面光刻机，通过机械臂实现硅 片在各个工位的转运，硅片从上料盒取出后先放 到预对位装置找到硅片的切边以及初步的定中 心，然后再将硅片放到已经对好位的工件台上， 曝光机构进行曝光，曝光后的硅片被取出放入到 下料盒内，重复上述循环即可实现自动化的光刻 A 作业。 2 1 3 5