一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法
- 申请专利号:CN202211701884.4
- 公开(公告)日:2025-06-13
- 公开(公告)号:CN115784146A
- 申请人:华南师范大学|||深圳市国华光电科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115784146 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202211701884.4 (22)申请日 2022.12.26 (71)申请人 华南师范大学 地址 510006 广东省广州市番禺区外环西 路378号华南师范大学华南先进光电 子研究院 申请人 深圳市国华光电科技有限公司 (72)发明人 唐彪 李新宇 林涛 者海峰 周国富 (74)专利代理机构 深圳市深联知识产权代理事 务所(普通合伙) 44357 专利代理师 张琪 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 7/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种具有超疏水表面的微结构及其制备方 法 (57)摘要 本申请涉及一种具有超疏水表面的微结构 及其制备方法,所述制备方法包括:将基板表面 进行预处理并干燥,在基板表面涂覆含氟聚合物 并加热处理,得到具有含氟聚合物疏水涂层的基 板(上板),通过带有阵列图案的掩膜板将具有聚 合物疏水涂层的基板照射处理,获得具有交错的 亲疏水阵列基板,再涂布紫外胶聚合物,在基板 表面获得凸起阵列(下板),将上板与下板进行接 触,并在上板和下板之间施加直流电压,将获得 的下板进行紫外光固化以及脱模处理,获得具有 固定形貌的微结构,将微结构表面蒸镀一层疏水
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