发明

喷淋板组件及薄膜沉积设备2025

2023-12-02 07:19:11 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311116736.0
  • 公开(公告)日:2025-04-04
  • 公开(公告)号:CN117127171A
  • 申请人:拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要:本发明提供了喷淋板组件及薄膜沉积设备。该喷淋板组件包括:喷淋板及上盖板。该上盖板位于该喷淋板上方,该上盖板的中心具有进气口,该上盖板上呈放射状自该进气口延径向设置有多排通气单元,该多排通气单元的下部贯穿该上盖板的下表面,朝向该喷淋板的上部通气。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117127171 A (43)申请公布日 2023.11.28 (21)申请号 202311116736.0 (22)申请日 2023.08.31 (71)申请人 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公 司 地址 110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900 号 (72)发明人 魏薇 张赛谦 王婷 刘肖朦  (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 专利代理师 胡林岭 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 喷淋板组件及薄膜沉积设备 (57)摘要 本发明提供了喷淋板组件及薄膜沉积设备。 该喷淋板组件包括:喷淋板及上盖板。该上盖板 位于该喷淋板上方,该上盖板的中心具有进气 口,该上盖板上呈放射状自该进气口延径向设置 有多排通气单元,该多排通气单元的下部贯穿该 上盖板的下表面,朝向该喷淋板的上部通气。 A 1 7 1 7 2 1 7 1 1 N C CN 117127171 A 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种喷淋板组件,其特征在于,包括: 喷淋板; 上盖板,该上盖板位于该喷淋板上方,该上盖板的中心具有进气口,该上盖板上呈放射 状

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