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一种阵列的MEMS压阻式触觉传感器封装设计方法2024

2024-04-07 07:29:14 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202311844509.X
  • 公开(公告)日:2024-04-05
  • 公开(公告)号:CN117819471A
  • 申请人:杭州电子科技大学
摘要:本申请公开了一种阵列的MEMS压阻式触觉传感器封装设计方法,包括以下步骤:在玻璃基板上制造出与阵列的MEMS压阻式触觉传感器上焊盘等大小、等间距的通孔,通孔填入导电金属材料;将触觉传感器倒装在玻璃基板,实现触觉传感器与玻璃基板下集成ASIC芯片电气通信。在硅衬底上制备出力传递微结构盖帽、固定框架;倒模出可产生变形的弹性结构;将力传递微结构盖帽和固定框架接合在一起,完成上层盖板制备;将上层盖板和MEMS压阻式触觉传感器对准键合。实现外部作用力与MEMS压阻式触觉传感器之间间接软接触,外部作用力通过力传递微结构盖帽,可以将力精准传递到阵列的MEMS压阻式触觉传感器的敏感元件上。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117819471 A (43)申请公布日 2024.04.05 (21)申请号 202311844509.X (22)申请日 2023.12.29 (71)申请人 杭州电子科技大学 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2 号大街 (72)发明人 董林玺 王珊 刘超然 杨伟煌  (74)专利代理机构 杭州奥创知识产权代理有限 公司 33272 专利代理师 王佳健 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) G01L 1/18 (2006.01) B81B 7/00 (2006.01) B81B 7/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 一种阵列的MEMS压阻式触觉传感器封装设 计方法 (57)摘要 本申请公开了一种阵列的MEMS压阻式触觉 传感器封装设计方法,包括以下步骤:在玻璃基 板上制造出与阵列的MEMS压阻式触觉传感器上 焊盘等大小、等间距的通孔,通孔填入导电金属 材料;将触觉传感器倒装在玻璃基板,实现触觉 传感器与玻璃基板下集成ASIC芯片电气通信。在 硅衬底上制备出力传递微结构盖帽、固定框架; 倒模出可产生变形的弹性结构;将力传递微结构 盖帽和固定框架接合在一起,完成上层盖板制 备;将上层盖板和MEMS压阻式触觉传感器对准键 合。实现外部作用力与MEMS压阻式触觉传感器之 A 间间接软接触,外部作用力通过力

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