1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
PCT发明

用于测量辐射束的方法和光刻设备

2023-06-23 08:18:40 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080014154.X
  • 公开（公告）日：2025-04-08
  • 公开（公告）号：CN113439237A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：本发明提供了一种包括投射系统的设备，该投射系统具有光轴并且被配置为投射辐射束。该设备包括被布置为测量由投射系统投射的辐射束的测量单元，该测量单元包括开口、以及感测表面，在使用时辐射束穿过开口，感测表面横向于光轴延伸并且被布置为测量穿过开口的辐射束。光刻设备被配置为在多个测量位置之间、在横向于光轴的平面中移动感测表面。辐射束限定上述平面中的视图，并且测量单元被配置为使得感测表面在每个测量位置捕获视图的一部分，该一部分比100％的视图小。本发明包括一种相对应的方法。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113439237 A (43)申请公布日 2021.09.24 (21)申请号 202080014154.X (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2020.01.30 代理人 赵林琳 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 19156895.5 2019.02.13 EP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.08.12 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/052250 2020.01.30 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/164918 EN 2020.08.20 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 A ·J ·唐科布洛克　Y ·乔杜里　 M ·H ·F ·詹森　 权利要求书3页 说明书16页 附图7页 (54)发明名称 用于测量辐射束的方法和光刻设备 (57)摘要

最新专利

相关专利