光刻胶曝光污染物的处理方法、处理设备及光刻机2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117555209 A (43)申请公布日 2024.02.13 (21)申请号 202311807633.9 (22)申请日 2023.12.26 (71)申请人 浙江大学杭州国际科创中心 地址 310000 浙江省杭州市萧山区建设三 路733号 (72)发明人 王依　高金铭　刘天棋　 (74)专利代理机构 杭州五洲普华专利代理事务 所(特殊普通合伙) 33260 专利代理师 姚宇吉 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 光刻胶曝光污染物的处理方法、处理设备及 光刻机 (57)摘要 本申请提供一种光刻胶曝光污染物的处理 方法、处理设备及光刻机，方法包括：提供真空腔 室，真空腔室内设置有待处理的器件，器件上沉 积有光刻胶曝光工艺形成的污染物，污染物包括 碳污染物和/或氢化金属污染物；向真空腔室内 持续通入工艺气体；提供X射线，X射线用于激发 工艺气体并使工艺气体产生活性粒子，活性粒子 用于与待处理的器件上的碳污染物和/或氢化金 属污染物反应，产生挥发性气态化合物；将挥发 性气态化合物排出真空腔室。处理设备包括：箱 体、真空泵、X射线源以及工艺气体源。本发明为 A 金属氧化物型光刻胶在实际光刻系统的推广应 9 用提出了解决方案，解决了含有机物的金属氧化 0 2 5 物型光刻胶的金属性污染与碳沉积的双重污染 5 5 7 问题。 1