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PCT发明

用于改进目标置放准确度的叠加目标设计2025

2024-02-15 07:29:48 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202280044839.8
  • 公开（公告）日：2025-05-02
  • 公开（公告）号：CN117546100A
  • 申请人：科磊股份有限公司
摘要：一种用于半导体计量的方法包含将第一膜层沉积于半导体衬底上以及将第二膜层上覆于所述第一膜层上。通过使用具有预定义分辨率限制的投影系统以通过至少一个掩模将光学辐射投射到所述半导体衬底上而图案化所述第一及第二膜层以产生具有指定几何形式的叠加目标。所述掩模含有：目标特征，其在对应于所述叠加目标的所述指定几何形式的布置中具有不小于所述预定义分辨率限制的目标特征尺寸；及辅助特征，其与所述目标特征交错且具有小于所述预定义分辨率限制的至少一个辅助特征尺寸。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117546100 A (43)申请公布日 2024.02.09 (21)申请号 202280044839.8 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 (22)申请日 2022.04.07 专利代理师 刘丽楠 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 63/290,651 2021.12.17 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.12.22 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2022/023751 2022.04.07 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2023/113850 EN 2023.06.22 (71)申请人 科磊股份有限公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 V ·莱温斯基　 权利要求书2页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 用于改进目标置放准确度的叠加目标设计 (57)摘要 一种用于半导体计量的方法包含将第一膜 层沉积于

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