发明

用于双层结构生长衬底外延生长的样品托

2023-06-27 09:45:46 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310291640.1
  • 公开(公告)日:2025-04-01
  • 公开(公告)号:CN116288691A
  • 申请人:广东天域半导体股份有限公司
摘要:本发明公开了一种用于双层结构生长衬底外延生长的样品托,包括托盘本体和掩膜板,托盘本体上开设有设有容纳生长衬底的主容置槽和容纳参考衬底的副容置槽,掩膜板沿一随托盘本体的旋转离心方向设置的滑动轨道滑动安装于托盘本体上,副容置槽位于沿滑动轨道由后向前排布的第一位置和第二位置,掩膜板沿滑动轨道在滑动后位和滑动前位之间滑动以切换遮盖第一位置处的副容置槽和第二位置处的副容置槽,掩膜板和滑动轨道之间的接触表面光滑,以使掩膜板在托盘本体减速时可在惯性作用下从遮盖第一位置处的副容置槽切换至遮盖第二位置处的副容置槽。本发明可通过掩膜板的惯性滑动切换遮盖参考衬底,在双层外延层生产时获得每一层外延层生长的单层样品。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288691 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310291640.1 (22)申请日 2023.03.22 (71)申请人 广东天域半导体股份有限公司 地址 523000 广东省东莞市松山湖北部工 业城工业北一路5号二楼办公楼 (72)发明人 丁雄傑 刘薇 李焕婷 张红  周泽成 邱树杰 李浩然 李锡光  (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 龙莉苹 (51)Int.Cl. C30B 25/12 (2006.01) C30B 29/36 (2006.01) G01D 21/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 用于双层结构生长衬底外延生长的样品托 (57)摘要 本发明公开了一种用于双层结构生长衬底 外延生长的样品托,包括托盘本体和掩膜板,托 盘本体上开设有设有容纳生长衬底的主容置槽 和容纳参考衬底的副容置槽,掩膜板沿一随托盘 本体的旋转离心方向设置的滑动轨道滑动安装 于托盘本体上,副容置槽位于沿滑动轨道由后向 前排布的第一位置和第二位置,掩膜板沿滑动轨 道在滑动后位和滑动前位之间滑动以切换遮盖 第一位置处的副容置槽和第二位置处的副容置 槽,掩膜板和滑动轨道之间的接触表面光滑,以 使掩膜板在托盘本体减速时可在惯性作用下从 遮盖第一位置处的副容置槽切换至遮盖第

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