原创力.专利
使用水平磁场生产硅的系统及方法
- 申请专利号：CN202080086321.1
- 公开（公告）日：2025-03-11
- 公开（公告）号：CN114787429A
- 申请人：环球晶圆股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114787429 A (43)申请公布日 2022.07.22 (21)申请号 202080086321.1 卡瑞喜玛 ·玛莉 ·哈德森 (22)申请日 2020.12.10 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 (30)优先权数据 专利代理师 江葳 62/947,785 2019.12.13 US (51)Int.Cl. (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C30B 15/10 (2006.01) 2022.06.13 C30B 15/30 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C30B 29/06 (2006.01) PCT/US2020/064231 2020.12.10 C30B 30/04 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据
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