光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机设备

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112230507 A (43)申请公布日 2021.01.15 (21)申请号 202011137210.7 (22)申请日 2020.10.22 (71)申请人 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 地址 250000 山东省济南市高新区机场路 7617号411-2-9室 (72)发明人 陈庆煌　柯思羽　刘志成　王见明　 (74)专利代理机构 北京超凡宏宇专利代理事务 所(特殊普通合伙) 11463 代理人 李莎 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书12页 附图4页 (54)发明名称 光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机 设备 (57)摘要 本申请提供一种光学邻近矫正模型构建方 法、装置及计算机设备，涉及半导体制造技术领 域。本申请通过对包括有待校验掩膜图案及对应 的至少一种基础掩膜图案的待测掩膜板图案进 行真实曝光试验及曝光模拟仿真，而后根据得到 的基础掩膜图案的第一曝光图案尺寸信息、待校 验掩膜图案的第二曝光图案轮廓信息，及待校验 掩膜图案的仿真曝光图案轮廓信息，将待校验掩 膜图案在真实曝光与光学仿真下分别对应的整 体曝光轮廓状况结合到目标电路图案的光学邻 近矫正模型构建过程中，使最终得到的模型直接 A 具有较高的矫正预测精准度，无需反复调整待校 7 验掩膜图案进行真实曝光试验来改善模型的矫 0 5