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抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法

2023-06-23 08:01:48 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202080012809.X
  • 公开(公告)日:2025-05-13
  • 公开(公告)号:CN113396364A
  • 申请人:三星SDI株式会社
摘要:本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例,所述抗蚀剂底层组成物包含:聚合物,包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元;以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113396364 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202080012809.X (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理 有限公司 11205 (22)申请日 2020.03.23 代理人 郑乐 臧建明 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 10-2019-0037030 2019.03.29 KR G03F 7/11 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/20 (2006.01) 2021.08.05 G03F 7/26 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 G03F 7/16 (2006.01) PCT/KR2020/003965 2020.03.23 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/204431 KO 2020.10.08 (71)申

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