发明

一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法2025

2024-01-08 07:16:29 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311362139.6
  • 公开(公告)日:2025-05-13
  • 公开(公告)号:CN117348329A
  • 申请人:湖南普照信息材料有限公司
摘要:本发明公开了一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料制作方法,包括:选取相移掩模坯料基底,基底的折射率在1.6以下、消光系数在0.05以下;将基底进行抛光、清洗处理;在基底上堆叠过渡层,过渡层的折射率n1与基底的折射率n2之差在0.3以内;在过渡层上堆叠相移层,相移层的折射率n3分别与过渡层的折射率n1、基底的折射率n2之差在0.5以内,相移层对于波长190‑900nm的光的消光系数k1为0.9以下;在相移层上堆叠铬膜层;在铬膜层上堆叠光刻胶。本发明提供的相移掩模坯料制作方法,能够在190‑900nm全波长上保持较低的消光系数,减少各曝光光源下的光刻时间,提高光刻效率,同时保证相移膜的膜层厚度有利于光刻结构的形成。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117348329 A (43)申请公布日 2024.01.05 (21)申请号 202311362139.6 (22)申请日 2023.10.20 (71)申请人 湖南普照信息材料有限公司 地址 410221 湖南省长沙市岳麓区麓枫路 40号 (72)发明人 周志刚 李伟 李翼  (74)专利代理机构 上海愉腾专利代理事务所 (普通合伙) 31306 专利代理师 谢建春 (51)Int.Cl. G03F 1/26 (2012.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种低折射率低消光系数的相移掩模坯料 制作方法 (57)摘要 本发明公开了一种低折射率低消光系数的 相移掩模坯料制作方法,包括:选取相移掩模坯 料基底,基底的折射率在1.6以下、消光系数在 0.05以下;将基底进行抛光、清洗处理;在基底上 堆叠过渡层,过渡层的折射率n 与基底的折射率 1 n 之差在0.3以内;在过渡层上堆叠相移层,相移 2 层的折射率n 分别与过渡层的折射率n 、基底的 3 1 折射率n 之差在0.5以内,相移层对于波长190‑ 2 900nm的光的消光系数k 为0.9以下;在相移层上 1 堆叠铬膜层;在铬膜层上堆叠光刻胶。本发明提

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