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用于量测设备的照射和检测设备

2023-05-05 09:30:35 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202080058446.3
  • 公开(公告)日:2025-04-08
  • 公开(公告)号:CN114270269A
  • 申请人:ASML荷兰有限公司
摘要:公开了一种用于量测工具的照射和检测设备以及相关方法。该设备包括照射装置,该照射装置能够被操作以产生测量照射,该测量照射包括多个离散波长带并且在每个波长带内包括具有至多单个峰的光谱。该检测装置包括检测分束器以将散射辐射分成多个通道,每个通道与所述波长带中的不同的波长带相对应;以及至少一个检测器,用于分开地检测每个通道。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114270269 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202080058446.3 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2020.07.14 代理人 赵林琳 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 19192284.8 2019.08.19 EP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G02B 27/14 (2006.01) 2022.02.18 G02B 27/12 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 G02B 27/10 (2006.01) PCT/EP2020/069844 2020.07.14 G01N 21/956 (2006.01) G01J 3/36 (2006.01) (87)P

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