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存储器装置中的信号产生电路系统布局

2023-08-31 07:19:38 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310160976.4
  • 公开(公告)日:2025-04-25
  • 公开(公告)号:CN116645984A
  • 申请人:美光科技公司
摘要:本申请案涉及存储器装置中的信号产生电路系统布局。存储器装置可包含相对于衬底定位于存储器裸片的多个层级中的信号产生电路系统。举例来说,用于产生存取信号的一组第一晶体管可定位于存储器裸片的第一层级上,且用于产生所述存取信号的一组第二晶体管可定位于所述存储器裸片的第二层级上。所述一组第一晶体管及所述一组第二晶体管的形成可涉及与在相应层级上形成其它晶体管共同的处理操作,所述其它晶体管例如单元选择晶体管、层面选择晶体管、分流晶体管及所述相应层级的其它晶体管。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116645984 A (43)申请公布日 2023.08.25 (21)申请号 202310160976.4 (22)申请日 2023.02.21 (30)优先权数据 17/680,006 2022.02.24 US (71)申请人 美光科技公司 地址 美国爱达荷州 (72)发明人 D ·维梅尔卡蒂  (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 专利代理师 彭晓文 (51)Int.Cl. G11C 5/06 (2006.01) G11C 11/22 (2006.01) 权利要求书4页 说明书32页 附图10页 (54)发明名称 存储器装置中的信号产生电路系统布局 (57)摘要 本申请案涉及存储器装置中的信号产生电 路系统布局。存储器装置可包含相对于衬底定位 于存储器裸片的多个层级中的信号产生电路系 统。举例来说,用于产生存取信号的一组第一晶 体管可定位于存储器裸片的第一层级上,且用于 产生所述存取信号的一组第二晶体管可定位于 所述存储器裸片的第二层级上。所述一组第一晶 体管及所述一组第二晶体管的形成可涉及与在 相应层级上形成其它晶体管共同的处理操作,所 述其它晶体管例如单元选择晶体管、层面选择晶 体管、分流晶体管及所述相应层级的其它晶体 管。 A 4 8 9 5 4 6 6 1 1 N C CN 116645984 A 权 利 要

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