发明

基于单束激光的双时刻X射线背光照相系统及方法

2023-06-27 09:33:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310140160.5
  • 公开(公告)日:2025-05-27
  • 公开(公告)号:CN116300293A
  • 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要:本发明涉及激光聚变研究领域和X射线探测技术领域,尤其是提供一种基于单束激光的双时刻X射线背光照相系统及方法,其中背光照相方法包括基于单束激光首次聚焦作用初级靶产生初级X射线源;未作用在初级靶上的透射激光从初级靶外侧透射至聚焦光学器件上,利用聚焦光学器件二次聚焦并将透射激光焦斑变小;基于二次聚焦后的透射激光作用次级靶产生次级X射线源;利用图像采集装置实现背光照相。其目的在于,用以解决现有激光X射线照相方法中单束激光作用靶一次只能够产生一个X射线源的技术问题,实现基于单束激光同轴或双轴的双时刻X射线背光照相的技术效果。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116300293 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310140160.5 (22)申请日 2023.02.20 (71)申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究 中心 地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号 (72)发明人 于明海 卢峰 王少义 闫永宏  张天奎 田超 杨月 朱斌 谭放  张晓辉 张杰 温家星 辛建婷  吴玉迟 周维民 谷渝秋  (74)专利代理机构 成都睿道专利代理事务所 (普通合伙) 51217 专利代理师 潘育敏 (51)Int.Cl. G03B 42/02 (2021.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 基于单束激光的双时刻X射线背光照相系统 及方法 (57)摘要 本发明涉及激光聚变研究领域和X射线探测 技术领域,尤其是提供一种基于单束激光的双时 刻X射线背光照相系统及方法,其中背光照相方 法包括基于单束激光首次聚焦作用初级靶产生 初级X射线源 ;未作用在初级靶上的透射激光从 初级靶外侧透射至聚焦光学器件上,利用聚焦光 学器件二次聚焦并将透射激光焦斑变小;基于二 次聚焦后的透射激光作用次级靶产生次级X射线 源;利用图像采集装置实现背光照相。其目的在 于,用以解决现有激光X射线照相方法中单束激 光作用靶一次只能够产生一个X射线源的技术问 A 题,实现基于单束激光同

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