曝光设备2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118068660 A (43)申请公布日 2024.05.24 (21)申请号 202410384564.3 (22)申请日 2024.03.29 (71)申请人 上海微电子装备（集团）股份有限公 司 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525 号 (72)发明人 李煜芝　褚占占　蓝科　周畅　 (74)专利代理机构 上海思捷知识产权代理有限 公司 31295 专利代理师 黄一磊 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图3页 (54)发明名称 曝光设备 (57)摘要 本发明提供一种曝光设备，包括：工件台，掩 模台，光学单元，包括光源和镜组；驱动单元，用 于驱动物镜和/或工件台移动；测量单元，用于测 量基板和/或掩模的面形数据；以及控制单元，被 配置为，在扫描曝光前，形成工件台运动轨迹和/ 或物镜运动轨迹，并对物镜运动轨迹进行平滑处 理，形成平滑后的物镜运动轨迹；在扫描曝光时， 基于工件台运动轨迹和/或平滑后的物镜运动轨 迹，向驱动单元发送运动指令。如此配置，通过优 化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运 动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不 在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的 A 产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过 0 曝或欠曝现象，提升了产品的良率。 6 6 8 6 0 8 1 1 N