在压印光刻工艺中配置光学层2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117806119 A (43)申请公布日 2024.04.02 (21)申请号 202410025025.0 (22)申请日 2017.09.14 (30)优先权数据 62/429,214 2016.12.02 US (62)分案原申请数据 201780074523.2 2017.09.14 (71)申请人 分子印记公司 地址 美国德克萨斯州 (72)发明人 V ·辛格　M ·N ·米勒　F ·Y ·徐　 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 专利代理师 牛晓玲　万柳军 (51)Int.Cl. G03F 7/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图9页 (54)发明名称 在压印光刻工艺中配置光学层 (57)摘要 本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。 配置光学层的压印光刻方法包括利用图案化模 板在衬底的一面上压印具有第一数量级的尺寸 的第一特征，同时利用图案化模板在衬底的该面 上压印具有第二数量级的尺寸的第二特征，第二 特征尺寸确定且布置成在衬底与相邻表面之间 限定一间隙。 A 9 1 1 6 0 8 7 1 1 N C CN 117806119 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种多层可佩戴目镜，包括： 衬底；