原创力.专利
用于光刻胶晶片的曝光后处理的方法和装置
- 申请专利号：CN202111180980.4
- 公开（公告）日：2025-04-15
- 公开（公告）号：CN113835299A
- 申请人：应用材料公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113835299 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202111180980.4 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 (22)申请日 2016.11.29 代理人 侯颖媖 张鑫 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/261,171 2015.11.30 US G03F 7/16 (2006.01) 62/267,531 2015.12.15 US G03F 7/20 (2006.01) 14/989,488 2016.01.06 US G03F 7/26 (2006.01) (62)分案原申请数据 G03F 7/38 (2006.01) 201611076231.6 2016.11.29 G03F 7/40 (2006.01) (71)申
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