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降低<111>晶向重掺单晶电阻率径向变化率的方法、单晶晶棒及应用2025

2023-12-25 07:20:17 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311232017.5
  • 公开(公告)日:2025-01-24
  • 公开(公告)号:CN117248268A
  • 申请人:宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司
摘要:本发明提供一种降低<111>晶向掺锑单晶电阻率径向变化率的方法及单晶晶棒,涉及<111>晶向单晶硅拉晶技术领域,在重掺拉制晶棒时,当晶棒进入等径阶段时,通过在预定等径长度内调整晶棒的拉速进行晶棒拉制,一方面,改善固液界面形状,从而中心电阻率和边缘电阻率偏差降低,使得晶体的电阻率分布更均匀,提高材料的电子性质均匀性;另一方面,减小杂质在(111)原子密排面与其他平面区的杂质浓度,进而减小<111>晶向重掺单晶的小平面效应,从而降低电阻率径向变化率(RRG),提高材料的电子性质稳定性,应用更加广泛。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117248268 A (43)申请公布日 2023.12.19 (21)申请号 202311232017.5 (22)申请日 2023.09.22 (71)申请人 宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司 地址 750000 宁夏回族自治区银川市经济 技术开发区光明西路28号 (72)发明人 王忠保 马成 芮阳 徐慶晧  王黎光 曹启刚 张昆  (74)专利代理机构 宁夏三源鑫知识产权代理事 务所(普通合伙) 64105 专利代理师 雷洋 (51)Int.Cl. C30B 15/20 (2006.01) C30B 29/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 降低<111>晶向重掺单晶电阻率径向变化率 的方法、单晶晶棒及应用 (57)摘要 本发明提供一种降低<111>晶向掺锑单晶电 阻率径向变化率的方法及单晶晶棒,涉及<111> 晶向单晶硅拉晶技术领域,在重掺拉制晶棒时, 当晶棒进入等径阶段时,通过在预定等径长度内 调整晶棒的拉速进行晶棒拉制,一方面,改善固 液界面形状,从而中心电阻率和边缘电阻率偏差 降低,使得晶体的电阻率分布更均匀,提高材料 的电子性质均匀性;另一方面,减小杂质在(111) 原子密排面与其他平面区的杂质浓度,进而减小 <111>晶向重掺单晶的小平面效应,从而降低电 阻率径向变化率(RRG),提高材料的电子性质稳 A 定性,应用更加广泛。

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