一种基于液相外延法生长铁氧体单晶厚膜的高温退火方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114737248 A (43)申请公布日 2022.07.12 (21)申请号 202210282043.8 C30B 33/02 (2006.01) (22)申请日 2022.03.22 (71)申请人 西南应用磁学研究所（中国电子科 技集团公司第九研究所） 地址 621000 四川省绵阳市滨河北路西段 268号 (72)发明人 帅世荣　李阳　李俊　魏占涛　 刘庆元　陈运茂　游斌　蓝江河　 肖礼康　 (74)专利代理机构 绵阳市博图知识产权代理事 务所(普通合伙) 51235 专利代理师 黎仲 (51)Int.Cl. C30B 19/12 (2006.01) C30B 29/28 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种基于液相外延法生长铁氧体单晶厚膜 的高温退火方法 (57)摘要 本发明公开了一种基于液相外延法生长铁 氧体单晶厚膜的高温退火方法，属于磁性功能材 料技术领域，该方法包括：以GGG或SGGG为衬底， 采用液相外延法制备百微米级铁氧体单晶厚膜， 在惰性气体、氧气混合气氛下进行阶梯式升降温 退火处理，再经酸煮、清洗得到表面光滑平整的 铁氧体单晶厚膜；经本发明退火处理的单晶厚膜 厚，介电损耗、铁磁共振线宽、光损耗降低，累积 应力得以释放，使单晶