发明

一种基于二维光栅结构的少模层间耦合器2025

2023-10-13 07:19:56 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310851298.6
  • 公开(公告)日:2025-06-13
  • 公开(公告)号:CN116859511A
  • 申请人:吉林大学
摘要:一种基于二维光栅结构的少模层间耦合器及其制备方法,属于平面光波导器件及其制备技术领域。本发明由硅片衬底、在硅片衬底上制备的二氧化硅下包层、在二氧化硅下包层上制备的聚合物层间耦合层、在聚合物层间耦合层和二氧化硅下包层上制备的聚合物上包层组成,聚合物层间耦合层被包覆在聚合物上包层之中;上层氮化硅直波导芯由上层氮化硅直波导和上层二维光栅波导组成,下层氮化硅直波导芯层由下层二维光栅波导和下层氮化硅直波导组成。本发明充分发挥了氮化硅波导传输损耗低、透明窗口宽、热稳定性高的优势,以及聚合物材料种类多、制备工艺简单等优势,并且这两种材料还具备工艺成熟、相互兼容的特点,适合大规模制备生产,具有重要的应用前景。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116859511 A (43)申请公布日 2023.10.10 (21)申请号 202310851298.6 (22)申请日 2023.07.12 (71)申请人 吉林大学 地址 130012 吉林省长春市长春高新技术 产业开发区前进大街2699号 (72)发明人 王希斌 车远华 孙士杰 谢宇航  王菲 张大明  (74)专利代理机构 长春吉大专利代理有限责任 公司 22201 专利代理师 王立文 (51)Int.Cl. G02B 6/124 (2006.01) 权利要求书1页 说明书13页 附图10页 (54)发明名称 一种基于二维光栅结构的少模层间耦合器 (57)摘要 一种基于二维光栅结构的少模层间耦合器 及其制备方法,属于平面光波导器件及其制备技 术领域。本发明由硅片衬底、在硅片衬底上制备 的二氧化硅下包层、在二氧化硅下包层上制备的 聚合物层间耦合层、在聚合物层间耦合层和二氧 化硅下包层上制备的聚合物上包层组成,聚合物 层间耦合层被包覆在聚合物上包层之中;上层氮 化硅直波导芯由上层氮化硅直波导和上层二维 光栅波导组成,下层氮化硅直波导芯层由下层二 维光栅波导和下层氮化硅直波导组成。本发明充 分发挥了氮化硅波导传输损耗低、透明窗口宽、 热稳定性高的优势,以及聚合物材料种类多、制 A 备工艺简单等优势,并且这两种材料还具备工艺 1 成熟、相互兼容的特点,适合大规模制备生产,具 1 5 9 有重