投影物镜畸变测量系统及方法、光刻机2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117270333 A (43)申请公布日 2023.12.22 (21)申请号 202311245666.9 G03F 9/00 (2006.01) (22)申请日 2023.09.25 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 申请人 上海微电子装备（集团）股份有限公 司 (72)发明人 蓝科　陈彩莲　王易因　洪杰　 李煜芝　程建瑞　 (74)专利代理机构 上海思捷知识产权代理有限 公司 31295 专利代理师 朱笑宇 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G03F 1/38 (2012.01) G03F 1/44 (2012.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图6页 (54)发明名称 投影物镜畸变测量系统及方法、光刻机 (57)摘要 本发明提供一种投影物镜畸变测量系统及 方法、光刻机。其中，所述方法是按设定路径移动 掩模板，并在移动后，利用相邻所述对准标记对 应的视场点之间的空间像距离误差得到的多个 视场点的畸变值来获取投影物镜畸变值。可见， 按设定路径移动掩模板实现了测试视场点的切 换；且在对准标记的独特设计下，获取相邻对准 标记对应的视场点之间的空间像距离误差，并以 此表征视场点的畸变值，以获取精准的畸变值。 在测量过程中掩模