PCT发明

用于ALD工艺的方法和设备

2023-05-28 13:32:31 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201980044799.5
  • 公开(公告)日:2025-02-28
  • 公开(公告)号:CN112368802A
  • 申请人:应用材料公司
摘要:本公开内容涉及用于原子层沉积(ALD)腔室的方法和设备。在一个实施方式中,提供一种盖组件,所述盖组件包括:多通道喷头,所述多通道喷头具有多个第一气体通道和与所述第一气体通道中的每一者流体地隔离的多个第二气体通道;和流引导件,所述流引导件耦接到所述多通道喷头的相对侧,所述流引导件中的每一者流体地耦接到所述多个第二气体通道。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112368802 A (43)申请公布日 2021.02.12 (21)申请号 201980044799.5 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理 有限公司 11006 (22)申请日 2019.07.18 代理人 徐金国 赵静 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/712,793 2018.07.31 US H01L 21/02 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H01L 51/00 (2006.01) 2020.12.31 H01L 51/56 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 H01L 21/67 (2006.01) PCT/US2019/042457 2019.07.18 C23C 16/455 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/028062 EN 2020.02.

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