多通路式真空蒸发源
- 申请专利号:CN202310135208.3
- 公开(公告)日:2025-05-09
- 公开(公告)号:CN116479383A
- 申请人:埃频(上海)仪器科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116479383 A (43)申请公布日 2023.07.25 (21)申请号 202310135208.3 (22)申请日 2020.07.03 (62)分案原申请数据 202010630958.4 2020.07.03 (71)申请人 埃频 (上海)仪器科技有限公司 地址 201415 上海市奉贤区钜庭路998号1 号楼 (72)发明人 艾金虎 (74)专利代理机构 上海智晟知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31313 专利代理师 李镝的 (51)Int.Cl. C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 多通路式真空蒸发源 (57)摘要 本发明提供了一种多通路式真空蒸发源,所 述多通路式真空蒸发源包括 :多组独立蒸发通 道,被配置为分别对镀膜对象提供蒸发操作;集 成罩,被配置为将所述多组独立蒸发通道的顶端 集成在一封闭空间内,所述多组独立蒸发通道通 过其顶端将蒸发的靶材传送至所述镀膜对象;组 合挡板,被配置为位于所述集成罩与所述镀膜对 象之间,通过开启动作和关闭动作,使所述多组 独立蒸发通道与所述镀膜对象之间连通或隔断; 安装法兰,被配置为将所述多组独立蒸发通道与 挡板驱动集成在一起 ;挡板驱动,被配置为控制 并驱动所述组合挡板的开启动作和关闭动作。 A 3 8 3 9 7 4 6 1 1 N C CN 11
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