发明

多通路式真空蒸发源

2023-07-28 07:14:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310135208.3
  • 公开(公告)日:2025-05-09
  • 公开(公告)号:CN116479383A
  • 申请人:埃频(上海)仪器科技有限公司
摘要:本发明提供了一种多通路式真空蒸发源,所述多通路式真空蒸发源包括:多组独立蒸发通道,被配置为分别对镀膜对象提供蒸发操作;集成罩,被配置为将所述多组独立蒸发通道的顶端集成在一封闭空间内,所述多组独立蒸发通道通过其顶端将蒸发的靶材传送至所述镀膜对象;组合挡板,被配置为位于所述集成罩与所述镀膜对象之间,通过开启动作和关闭动作,使所述多组独立蒸发通道与所述镀膜对象之间连通或隔断;安装法兰,被配置为将所述多组独立蒸发通道与挡板驱动集成在一起;挡板驱动,被配置为控制并驱动所述组合挡板的开启动作和关闭动作。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116479383 A (43)申请公布日 2023.07.25 (21)申请号 202310135208.3 (22)申请日 2020.07.03 (62)分案原申请数据 202010630958.4 2020.07.03 (71)申请人 埃频 (上海)仪器科技有限公司 地址 201415 上海市奉贤区钜庭路998号1 号楼 (72)发明人 艾金虎  (74)专利代理机构 上海智晟知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31313 专利代理师 李镝的 (51)Int.Cl. C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 多通路式真空蒸发源 (57)摘要 本发明提供了一种多通路式真空蒸发源,所 述多通路式真空蒸发源包括 :多组独立蒸发通 道,被配置为分别对镀膜对象提供蒸发操作;集 成罩,被配置为将所述多组独立蒸发通道的顶端 集成在一封闭空间内,所述多组独立蒸发通道通 过其顶端将蒸发的靶材传送至所述镀膜对象;组 合挡板,被配置为位于所述集成罩与所述镀膜对 象之间,通过开启动作和关闭动作,使所述多组 独立蒸发通道与所述镀膜对象之间连通或隔断; 安装法兰,被配置为将所述多组独立蒸发通道与 挡板驱动集成在一起 ;挡板驱动,被配置为控制 并驱动所述组合挡板的开启动作和关闭动作。 A 3 8 3 9 7 4 6 1 1 N C CN 11

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