移除方法、积层体、形成方法及聚酰亚胺树脂

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113219796 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 202010069273.7 (22)申请日 2020.01.21 (71)申请人 新应材股份有限公司 地址 中国台湾桃园市龙潭区新和路455号 (72)发明人 杨子瑾　林勇宇　赖积佑　钟明哲　 张哲玮　 (74)专利代理机构 北京博思佳知识产权代理有 限公司 11415 代理人 韩果 (51)Int.Cl. G03F 7/42(2006.01) C08G 73/12(2006.01) 权利要求书4页 说明书13页 附图5页 (54)发明名称 移除方法、积层体、形成方法、聚酰亚胺树脂 及剥离液 (57)摘要 本发明提供一种可形成具有良好的剥离性 的聚酰亚胺树脂、移除光致抗蚀剂的方法、层合 板、形成金属图案的方法及剥离液。移除光致抗 蚀剂的方法包括：于基板上形成离型层，离型层 具有彼此相对的第一表面与第二表面，其中离型 层的第一表面与基板接触；于离型层的第二表面 上形成光致抗蚀剂层；以及移除离型层以及光致 抗蚀剂层。离型层是由聚酰亚胺树脂所形成。聚 酰亚胺树脂是由四羧酸二酐类、二胺类以及苯酚 胺类进行聚合反应而获得。二胺类包括羟基氟化 二胺类、苯甲酸二胺类以及氨基四甲基二硅氧烷 A 类。 6 9 7 9 1 2