一种改善膜层颗粒的方法2024
- 申请专利号:CN202311487203.3
- 公开(公告)日:2024-02-13
- 公开(公告)号:CN117551978A
- 申请人:湖南普照信息材料有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117551978 A (43)申请公布日 2024.02.13 (21)申请号 202311487203.3 C23C 14/14 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) (22)申请日 2023.11.09 C23C 14/06 (2006.01) (71)申请人 湖南普照信息材料有限公司 地址 410221 湖南省长沙市岳麓区麓枫路 40号 (72)发明人 吴云峰 周志刚 李伟 杨旭 徐根 李翼 张诚 (74)专利代理机构 上海愉腾专利代理事务所 (普通合伙) 31306 专利代理师 李四娥 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 一种改善膜层颗粒的方法 (57)摘要 本发明公开了一种改善膜层颗粒的方法,用 于镀膜工艺,包括:进行遮挡物清洁;进行镀膜机 腔体清洁;包括使用负压吸收装置清除腔体内的 粉尘,进行擦拭处理,安装已清洁的遮挡物,将腔
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