发明

一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法2025

2023-12-17 07:15:55 发布于四川 3
  • 申请专利号:CN202311165016.3
  • 公开(公告)日:2025-05-16
  • 公开(公告)号:CN117192913A
  • 申请人:安徽工程大学
摘要:本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域,尤其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法,通过光刻中三维移动平台的纳米级距离的反复微移动填补DMD像素间隙,从而消减DMD像素量化误差,实现提高曝光图形轮廓的边缘平滑度,提高分辨率,并且通过三维移动平台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同程度的优化结果。与子图叠加光刻相比,整个过程更加便捷灵活,与普通的非子图叠加光刻相比,曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117192913 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202311165016.3 (22)申请日 2023.09.11 (71)申请人 安徽工程大学 地址 241000 安徽省芜湖市鸠江区北京中 路 (72)发明人 黄胜洲 任博文 唐远卓 田照伟  蒋铖玮 吴东杰 李懿  (74)专利代理机构 南京匠桥专利代理有限公司 32568 专利代理师 查颖 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的 系统及方法 (57)摘要 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域,尤 其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率 的系统及方法,通过光刻中三维移动平台的纳米 级距离的反复微移动填补DMD像素间隙,从而消 减DMD像素量化误差,实现提高曝光图形轮廓的 边缘平滑度,提高分辨率,并且通过三维移动平 台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同 程度的优化结果。与子图叠加光刻相比,整个过 程更加便捷灵活,与普通的非子图叠加光刻相 比,曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。 A 3 1 9 2 9 1 7 1 1 N C CN 117192913 A 权 利 要 求 书 1