一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的系统及方法2025
- 申请专利号:CN202311165016.3
- 公开(公告)日:2025-05-16
- 公开(公告)号:CN117192913A
- 申请人:安徽工程大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117192913 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202311165016.3 (22)申请日 2023.09.11 (71)申请人 安徽工程大学 地址 241000 安徽省芜湖市鸠江区北京中 路 (72)发明人 黄胜洲 任博文 唐远卓 田照伟 蒋铖玮 吴东杰 李懿 (74)专利代理机构 南京匠桥专利代理有限公司 32568 专利代理师 查颖 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率的 系统及方法 (57)摘要 本发明涉及DMD器件成像曝光技术领域,尤 其涉及一种基于三维移动曝光提高光刻分辨率 的系统及方法,通过光刻中三维移动平台的纳米 级距离的反复微移动填补DMD像素间隙,从而消 减DMD像素量化误差,实现提高曝光图形轮廓的 边缘平滑度,提高分辨率,并且通过三维移动平 台不同的移动距离和不同的移动路线达到不同 程度的优化结果。与子图叠加光刻相比,整个过 程更加便捷灵活,与普通的非子图叠加光刻相 比,曝光后图形轮廓的边缘光滑度要更加平滑。 A 3 1 9 2 9 1 7 1 1 N C CN 117192913 A 权 利 要 求 书 1
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