一种基于MD级联构型分析的钨辐照缺陷产生方法及系统

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114664386 A (43)申请公布日 2022.06.24 (21)申请号 202210290058.9 (22)申请日 2022.03.23 (71)申请人 中国科学院合肥物质科学研究院 地址 230031 安徽省合肥市蜀山区蜀山湖 路350号 (72)发明人 张传国　李永钢　郑淇蓉　魏留明　 程凡　曾雉　 (74)专利代理机构 合肥市浩智运专利代理事务 所(普通合伙) 34124 专利代理师 朱文振 (51)Int.Cl. G16C 10/00 (2019.01) G16C 60/00 (2019.01) 权利要求书3页 说明书9页 附图6页 (54)发明名称 一种基于MD级联构型分析的钨辐照缺陷产 生方法及系统 (57)摘要 本发明提供一种基于MD级联构型分析的钨 辐照缺陷产生方法及系统包括：对PKA能谱采用 随机抽样方法得到单个PKA能量E ；由PKA能量 pka 得到相应的级联能量；依照缺陷数目和依照缺陷 团簇数目进行后续抽样操作；通过级联能量得到 缺陷团簇尺寸分布参数；通过缺陷团簇尺寸分布 参数即可得到相应的尺寸分布形式，依照缺陷团 簇尺寸分布形式随机抽样得到间隙团簇或空位 团簇的尺寸；通过级联能量得到缺陷团簇空间分 布参数；通过缺陷团簇空间分布参数得到缺陷团 簇空间分布形式，依照缺陷团簇径向和角向分布