屏蔽膜及其制作方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112449566 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 201910835890.0 (22)申请日 2019.09.05 (71)申请人 苏州维业达触控科技有限公司 地址 215026 江苏省苏州市苏州工业园区 新昌路68号 (72)发明人 刘麟跃　周小红　基亮亮　 (74)专利代理机构 上海波拓知识产权代理有限 公司 31264 代理人 杨波 (51)Int.Cl. H05K 9/00(2006.01) C25D 1/10(2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图5页 (54)发明名称 屏蔽膜及其制作方法 (57)摘要 本发明公开了一种屏蔽膜，包括由微电铸制 备形成包括多条金属线的屏蔽区，以及由微电铸 制备形成、连接于所述屏蔽区至少一侧、用以降 低所述屏蔽区整体的厚度差异的缓冲区。本发明 还公开了一种屏蔽膜的制作方法，该方法包括： 提供具有屏蔽区图形凹槽以及与屏蔽区图形凹 槽连接的缓冲区图形凹槽的固化胶层；在屏蔽区 图形凹槽和缓冲区图形凹槽内采用微电铸制备 屏蔽区以及与屏蔽区连接的缓冲区；将连接在一 起的屏蔽区和缓冲区与固化胶层分离，获得屏蔽 膜。通过微电铸制备屏蔽区以及在屏蔽区至少一 侧制备缓冲区，使得屏蔽区的整体的厚度差异较 A 小，从而使屏蔽区的厚度比较均匀，进而增强