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实用新型

一种滤光片

2023-02-12 08:14:05 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202222893683.0
  • 公开（公告）日：2023-02-10
  • 公开（公告）号：CN218470998U
  • 申请人：杭州秋光科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种滤光片，属于滤光设备技术领域，旨在解决现有的具有投影功能电子产品投影效果较差的问题；包括：玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片的顶面设置有高反膜，制作材料为二氧化硅和五氧化三钛；本实用新型由于在滤光片上镀有30层制作材料为二氧化硅和五氧化三钛的高反膜，使得55°光源反射百分比平均比现有滤光片提升5％，且还可以反射60°‑75°的光源，大大提高反射范围，使得投影杂光减少、成像更加清晰，使得高反膜在400‑700nm、850‑950nm反射光Ravg>95％,大大的增强光的反射。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218470998 U (45)授权公告日 2023.02.10 (21)申请号 202222893683.0 (22)申请日 2022.11.01 (73)专利权人 杭州秋光科技有限公司 地址 310000 浙江省杭州市经济技术开发 区白杨街道21号大街600号2幢172室 (72)发明人 潘帅　胡庆国　吴佳佳　张梅骄　 (74)专利代理机构 北京精翰专利代理有限公司 11921 专利代理师 王立 (51)Int.Cl. G02B 5/28 (2006.01) G03B 21/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 (54)实用新型名称 一种滤光片 (57)摘要 本实用新型公开了一种滤光片，属于滤光设 备技术领域，旨在解决现有的具有投影功能电子 产品投影效果较差的问题；包括：玻璃基片，其特 征在于：所述玻璃基片的顶面设置有高反膜，制 作材料为二氧化硅和五氧化三钛；本实用新型由 于在滤光片上镀有30层制作材料为二氧化硅和 五氧化三钛的高反膜，使得55°光源反射百分比 平均比现有滤光片提升5％，且还可以反射60°‑ 75°的光源，大大提高反射范围，使得投影杂光减 少、成像更加清晰，使得高反膜在400‑700nm、 850‑950nm反射光Ravg>95％,大大的增强光的反 射。 U 8 9 9 0 7 4 8 1 2 N C CN 218470998 U

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