原创力.专利
用于光刻装置中的部件、保护部件的方法以及保护光刻装置中的台的方法
- 申请专利号：CN202080013231.X
- 公开（公告）日：2025-01-10
- 公开（公告）号：CN113412452A
- 申请人：ASML荷兰有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113412452 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202080013231.X (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2020.01.24 代理人 赵林琳 郑振 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 19156202.4 2019.02.08 EP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H01L 21/687 (2006.01) 2021.08.06 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/051775 2020.01.24 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/160938 EN 2020.08.13 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 M ·A ·范德凯克霍夫 权利要求书2页 说明书7页
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