发明

超大产能真空镀膜腔及用于异质结技术的真空镀膜设备

2023-06-02 12:54:03 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310126862.8
  • 公开(公告)日:2025-03-28
  • 公开(公告)号:CN116180056A
  • 申请人:常州捷佳创精密机械有限公司
摘要:本发明涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种超大产能真空镀膜腔以及用于异质结技术的真空镀膜设备,超大产能真空镀膜腔具有一内腔,所述内腔上部设有分气组件,所述分气组件至少包括由上至下依次由气孔连通的第一分气板、第二分气板,能够极大地改善腔内气流场均匀性差的问题,凸台状的导热件,减少加热器和硅片的距离,来提高加热效率和温度均匀性,保证了内腔镀膜的工艺效果;同时直线式多工艺腔排布方式,也同步降低了生产节拍,大大增加了设备产能。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116180056 A (43)申请公布日 2023.05.30 (21)申请号 202310126862.8 (22)申请日 2023.02.17 (71)申请人 常州捷佳创精密机械有限公司 地址 213000 江苏省常州市新北区机电工 业园宝塔山路9号 (72)发明人 左国军 朱海剑  (74)专利代理机构 常州市韬略专利代理事务所 (普通合伙) 32565 专利代理师 何聪 (51)Int.Cl. C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 超大产能真空镀膜腔及用于异质结技术的 真空镀膜设备 (57)摘要 本发明涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一 种超大产能真空镀膜腔以及用于异质结技术的 真空镀膜设备 ,超大产能真空镀膜腔具有一内 腔,所述内腔上部设有分气组件,所述分气组件 至少包括由上至下依次由气孔连通的第一分气 板、第二分气板,能够极大地改善腔内气流场均 匀性差的问题,凸台状的导热件,减少加热器和 硅片的距离,来提高加热效率和温度均匀性,保 证了内腔镀膜的工艺效果;同时直线式多工艺腔 排布方式,也同步降低了生产节拍,大大增加了 设备产能。 A 6 5 0 0 8 1 6 1 1 N C CN 116180056 A 权 利 要 求 书

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