原创力.专利
基板处理装置和基板处理方法2025
- 申请专利号：CN202280048780.X
- 公开（公告）日：2025-05-16
- 公开（公告）号：CN117678056A
- 申请人：东京毅力科创株式会社
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117678056 A (43)申请公布日 2024.03.08 (21)申请号 202280048780.X (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 (22)申请日 2022.07.06 专利代理师 刘新宇 李靖 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2021-117619 2021.07.16 JP H01L 21/306 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2024.01.09 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2022/026844 2022.07.06 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2023/286672 JA 2023.01.19 (71)申请人 东京毅力科创株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 中泽贵士 权利要求书1页 说明书6页 附图5页 (54)发明名称 基板处理装置和基板处理方法 (57)摘要 基板处理装置具备紫外线照射部、保持部以 及液
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