基片处理装置
- 申请专利号:CN202010736750.0
- 公开(公告)日:2025-07-11
- 公开(公告)号:CN112346303A
- 申请人:东京毅力科创株式会社
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112346303 A (43)申请公布日 2021.02.09 (21)申请号 202010736750.0 B05C 11/10 (2006.01) B05C 11/08 (2006.01) (22)申请日 2020.07.28 (30)优先权数据 2019-145503 2019.08.07 JP (71)申请人 东京毅力科创株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 新村聪 坂井勇治 柴崎健太 高柳康治 矢田健二 稻田博一 关慎一 绪方健人 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限 公司 11322 代理人 龙淳 刘芃茜 (51)Int.Cl. G03F 7/16 (2006.01) B05C 13/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书15页 附图12页 (54)发明名称 基片处理装置 (57)摘要 本发明提供一种基片处理装置。基片处理装 置包括:遮罩部件,其配置成包围由旋转保持部 保持的基片的周围;收集部件,其配置于遮罩部 件与旋转保持部之间的排气路径;和溶剂供给 部,其配置在收集部件的上方,构成为能够对收 集部件供给溶剂。溶剂供给部包括:内侧贮存室, 其构成为当从上方观察时包围基
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