发明

基片处理装置

2023-05-28 13:21:55 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202010736750.0
  • 公开(公告)日:2025-07-11
  • 公开(公告)号:CN112346303A
  • 申请人:东京毅力科创株式会社
摘要:本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括:遮罩部件,其配置成包围由旋转保持部保持的基片的周围;收集部件,其配置于遮罩部件与旋转保持部之间的排气路径;和溶剂供给部,其配置在收集部件的上方,构成为能够对收集部件供给溶剂。溶剂供给部包括:内侧贮存室,其构成为当从上方观察时包围基片的周围;外侧贮存室,其构成为当从上方观察时包围内侧贮存室的周围;和分隔壁,其以划分出内侧贮存室和外侧贮存室的方式沿周向延伸。多个连通孔以被导入到外侧贮存室的溶剂能够向内侧贮存室流通的方式贯通分隔壁地形成。多个滴落孔以内侧贮存室内的溶剂能够向收集部件滴落的方式贯通内侧贮存室的底壁地形成。本发明能够有效地除去棉状块。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112346303 A (43)申请公布日 2021.02.09 (21)申请号 202010736750.0 B05C 11/10 (2006.01) B05C 11/08 (2006.01) (22)申请日 2020.07.28 (30)优先权数据 2019-145503 2019.08.07 JP (71)申请人 东京毅力科创株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 新村聪 坂井勇治 柴崎健太  高柳康治 矢田健二 稻田博一  关慎一 绪方健人  (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限 公司 11322 代理人 龙淳 刘芃茜 (51)Int.Cl. G03F 7/16 (2006.01) B05C 13/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书15页 附图12页 (54)发明名称 基片处理装置 (57)摘要 本发明提供一种基片处理装置。基片处理装 置包括:遮罩部件,其配置成包围由旋转保持部 保持的基片的周围;收集部件,其配置于遮罩部 件与旋转保持部之间的排气路径;和溶剂供给 部,其配置在收集部件的上方,构成为能够对收 集部件供给溶剂。溶剂供给部包括:内侧贮存室, 其构成为当从上方观察时包围基

最新专利