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PCT发明

用于在片段边界处产生图案形成装置图案的方法

2023-06-16 07:28:53 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN201980086926.8
  • 公开（公告）日：2025-01-28
  • 公开（公告）号：CN113227899A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：本文描述一种方法，所述方法用于产生待用于图案化过程中的掩模图案。所述方法包括：(P301)获得(i)第一特征片段和(ii)第二特征片段，所述第一特征片段包括初始掩模图案的第一多边形部分，所述第二特征片段(P302)包括所述初始掩模图案的第二多边形部分；(P303)调整位于所述第一特征片段与所述第二构件片段之间的片段边界处的所述第二多边形部分，使得所述第一多边形部分与所述第二多边形部分之间在所述片段边界处的差减小；以及(P305)在所述片段边界处组合所述第一多边形部分与调整后的第二多边形部分，以形成所述掩模图案(330)。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113227899 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 201980086926.8 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2019.11.18 代理人 张启程 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/785,981 2018.12.28 US G03F 1/36 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 1/70 (2006.01) 2021.06.28 G03F 7/20 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/081574 2019.11.18 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/135946 EN 2020.07.02 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 张权　赵勇柱　朱漳楠

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