一种提高管筒件内壁涂层表面光洁度和膜基结合强度的装置及方法
- 申请专利号:CN202310182329.3
- 公开(公告)日:2025-02-28
- 公开(公告)号:CN116219374A
- 申请人:哈尔滨工业大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219374 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310182329.3 (22)申请日 2023.03.01 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 田修波 张鑫 巩春志 (74)专利代理机构 哈尔滨华夏松花江知识产权 代理有限公司 23213 专利代理师 侯静 (51)Int.Cl. C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种提高管筒件内壁涂层表面光洁度和膜 基结合强度的装置及方法 (57)摘要 一种提高管筒件内壁涂层表面光洁度和膜 基结合强度的装置及方法,本发明为了解决管筒 件内壁涂层表面光洁度差、膜基结合强度弱的问 题。本发明提高管筒件内壁涂层表面光洁度和膜 基结合强度的装置包括金属阴极弧源、磁场线 圈、挡板、屏蔽罩、屏蔽挡板、阳极杆、辅助阳极、 进气管、真空室、金属阴极弧直流电源、脉冲偏压 电源和辅助阳极直流电源,管筒件置于真空室 中。本发明采用弧增强辉光放电工艺,对管筒件 内表面进行高密度等离子体刻蚀清洗及活化,也 对涂层生长初期提供电子加热,可大幅度提高膜 A 基结合强度。此外,正对金
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