可降低掩膜复杂度的光学临近修正掩膜优化方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114019761 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202111270835.5 (22)申请日 2021.10.29 (71)申请人 智腾科技股份有限公司 地址 中国香港新界沙田科学园科技大道东 16号海滨大楼2座1楼 (72)发明人 虞子阳　 (74)专利代理机构 大连星河彩舟专利代理事务 所(普通合伙) 21263 代理人 陈玲玉　刘斌 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 可降低掩膜复杂度的光学临近修正掩膜优 化方法 (57)摘要 本发明属于芯片制造领域，提出了可降低掩 膜复杂度的光学临近修正掩膜优化方法。该方法 提出了一种用于光学临近修正的可以对抗偏差 的新型损失函数。在考虑了打印误差和工艺偏差 环的影响之外，引入一项代表掩膜与目标图像的 偏差来规范掩膜的几何特征，通过对解空间添加 限制，在掩膜的图像生成质量和复杂度之间取得 更好地平衡；对工艺偏差建模优化，产生的掩膜 版能更有效对抗工艺偏差。优化芯片制造掩膜 版，使得光刻之后的图案有较高的保真度。 A 1 6 7 9 1 0 4 1 1 N C CN 114019761 A 权　利　要　求　书