PCT发明

钌接触件的抗粘连增强

2023-05-05 09:29:57 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202080056073.6
  • 公开(公告)日:2025-07-15
  • 公开(公告)号:CN114269683A
  • 申请人:QORVO美国公司
摘要:一种制造MEMS装置的方法。所述MEMS装置具有空腔,横梁将在所述空腔中移动以改变所述装置的电容。在已发生大部分装置堆积之后,去除牺牲材料以在所述MEMS装置空腔内释放所述横梁。此后,暴露的钌接触件暴露于氟以进行以下中的任一者:掺杂暴露的钌且减少表面粘附力,在暴露的钌表面上形成氟化自组装单层,在暴露的钌上沉积纳米钝化膜,或改变所述钌的表面粗糙度。归因于氟处理,存在低电阻、耐久的接触件,并且所述接触件不太易受粘连事件影响。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114269683 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202080056073.6 兰斯 ·巴伦  威利布罗德斯 ·G ·M ·范 ·登 ·赫 (22)申请日 2020.08.06 克  (30)优先权数据 (74)专利代理机构 北京康信知识产权代理有限 62/884,114 2019.08.07 US 责任公司 11240 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 代理人 杜兆东 2022.02.07 (51)Int.Cl. (86)PCT国际申请的申请数据 B81C 1/00 (2006.01) PCT/US2020/045169 2020.08.06 B81B 7/02 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据

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