一种通过等离子体增强化学气相沉积增材技术实现零件表面超光滑的方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116377414 A (43)申请公布日 2023.07.04 (21)申请号 202211666152.6 (22)申请日 2022.12.23 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 王浪平　刘文宇　王小峰　 (74)专利代理机构 哈尔滨市松花江联合专利商 标代理有限公司 23213 专利代理师 侯静 (51)Int.Cl. C23C 16/26 (2006.01) C23C 16/505 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 一种通过等离子体增强化学气相沉积增材 技术实现零件表面超光滑的方法 (57)摘要 一种通过等离子体增强化学气相沉积增材 技术实现零件表面超光滑的方法，它涉及一种实 现零件表面超光滑的方法。本发明要解决传统减 材超光滑方法耗时长，且现有DLC沉积技术未实 现粗糙度由纳米级降低至亚纳米级的问题。方 法：将待处理的零件放入真空室中并抽真空 ，然 后通入乙炔气体，控制真空室内气压，然后通过 射频辉光放电在真空室内部产生乙炔等离子体， 设置射频功率，并在待处理的零件上施加脉冲电 压，在零件表面进行等离子体增强化学气相沉积 得到DLC薄膜。本发明用于通过等离子体增强化 A 学气相沉积增材技术实现零件表面超光滑。 4 1 4 7 7 3 6 1 1 N C CN