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发明

无线充电用屏蔽膜及其制备方法和制造设备

2023-05-09 11:25:53 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202111589803.1
  • 公开（公告）日：2025-06-10
  • 公开（公告）号：CN114438455A
  • 申请人：信维通信（江苏）有限公司
摘要：本发明公开了无线充电用屏蔽膜及其制备方法和制造设备，无线充电用屏蔽膜包括胶层以及通过磁控溅射成型于所述胶层一侧表面的磁性层，所述磁性层为(Fe65Co35)x(TiO2)1‑x层，其中，x≥0.76；所述磁性层的饱和磁感应强度Bs≥1.7T。本无线充电用屏蔽膜，相比传统的铁基纳米晶薄带具有更高的饱和磁感应强度和共振频率，提高了无线充电接收端接收线圈的磁耦合效率，从而有效地提高了无线充电功率、效率和速度。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114438455 A (43)申请公布日 2022.05.06 (21)申请号 202111589803.1 (22)申请日 2021.12.23 (71)申请人 信维通信（江苏）有限公司 地址 213000 江苏省常州市金坛区金龙大 道369号 (72)发明人 邹想　王磊　张继林　董泽琳　 蔡鹏　 (74)专利代理机构 深圳市博锐专利事务所 44275 专利代理师 王芳 (51)Int.Cl. C23C 14/20 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) C22C 38/10 (2006.01) H02J 50/10 (2016.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 无线充电用屏蔽膜及其制备方法和制造设 备 (57)摘要 本发明公开了无线充电用屏蔽膜及其制备 方法和制造设备，无线充电用屏蔽膜包括胶层以 及通过磁控溅射成型于所述胶层一侧表面的磁 性层，所述磁性层为(Fe Co ) (TiO ) 层，其 65 35 x 2 1‑x 中，x≥0.76；所述磁性层的饱和磁感应强度B ≥ s 1.7T。本无线充电用屏蔽膜，相比传统的铁基纳 米晶薄带具有更高的饱和磁感应强度和共振频 率，提高

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