在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳米孪晶区
- 申请专利号:CN202180017613.4
- 公开(公告)日:2025-06-13
- 公开(公告)号:CN115812002A
- 申请人:北京科技大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115812002 A (43)申请公布日 2023.03.17 (21)申请号 202180017613.4 (22)申请日 2021.07.15 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.08.29 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/CN2021/106414 2021.07.15 (71)申请人 北京科技大学 地址 100083 北京市海淀区学院路30号 (72)发明人 庞晓露 郭涛 高克玮 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 专利代理师 刘新宇 李茂家 (51)Int.Cl. A99Z 99/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图13页 (54)发明名称 在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳 米孪晶区 (57)摘要 在一般方面,本申请公开了一种制造具有可 调体积分数的纳米孪晶区的陶瓷薄膜。在一些方 面,本申请公开了一种用于在真空室中的衬底的 表面上制造陶瓷薄膜的方法。陶瓷薄膜包括多个 晶粒;每个晶粒包括一个或多个纳米孪晶区。一 个或多个纳米孪晶区的体积分数在陶瓷薄膜的 30~80%的范围内。准备包括多种溅射材料的多 个靶。在真空室中形成气体气氛。向多个靶供应 电能以引起多种溅射材料的共溅射,从而形成具 有一个或多个纳米孪晶区的陶瓷薄膜。 A 2 0 0 2 1 8 5 1 1 N C
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