一种防基材磁化的PVD磁控溅射设备2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116752111 A (43)申请公布日 2023.09.15 (21)申请号 202310780792.8 (22)申请日 2023.06.28 (71)申请人 北京北方华创真空技术有限公司 地址 102600 北京市大兴区北京经济技术 开发区文昌大道8号1幢401室 (72)发明人 肖剑　苏艳波　刘旭　马永　尹翔　 刘文丽　 (74)专利代理机构 北京维正专利代理有限公司 11508 专利代理师 邓骏杰 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) H01F 7/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 一种防基材磁化的PVD磁控溅射设备 (57)摘要 本申请属于磁控溅射领域，尤其是涉及一种 防基材磁化的PVD磁控溅射设备，其包括多个阴 极磁棒和与阴极磁棒一一对应的靶材，靶材为套 设于阴极磁棒外围的靶料圆筒，阴极磁棒包括至 少三个磁条，磁条贴附于靶材的内壁，且与靶材 平行等长；每个阴极磁棒中的磁条的磁极作镜像 设置，相邻阴极磁棒中的磁条的磁极互逆设置。 本申请具有消除磁控溅射加工过程中基材的磁 化现象的效果。 A 1 1 1 2 5 7 6 1 1 N C CN 116752111 A 权　利　要　求　书