发明

便于连续改性的等离子体浸没离子注入装置2025

2024-03-05 07:14:58 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311560568.4
  • 公开(公告)日:2025-07-01
  • 公开(公告)号:CN117626209A
  • 申请人:中南大学
摘要:本发明公开了一种便于连续改性的等离子体浸没离子注入装置,包括安装台、处理室、预处理室以及耙架,安装台设有通口,处理室连接于安装台的顶端,处理室设有进气口,处理室的底端设有第一开口,预处理室滑动安装于安装台的底端,预处理室设有第一真空口,预处理室的顶端设有第二开口,预处理室能够滑动至使第二开口与通口连通或者分离,耙架安装于预处理室内,其中,安装台设有第一封门和/或处理室设有第二封门,安装台的底面贴合于预处理室的顶面和/或预处理室设有第三封门。本发明的便于连续改性的等离子体浸没离子注入装置,能够极大缩短改性以外所需的作业时间,有利于等离子体浸没离子注入改性技术进一步在工业领域中得到应用。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117626209 A (43)申请公布日 2024.03.01 (21)申请号 202311560568.4 (22)申请日 2023.11.21 (71)申请人 中南大学 地址 410083 湖南省长沙市岳麓区麓山南 路932号 (72)发明人 唐进元 沈小程 姜婷婷 朱江平  (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 黄全发 (51)Int.Cl. C23C 14/48 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 便于连续改性的等离子体浸没离子注入装 置 (57)摘要 本发明公开了一种便于连续改性的等离子 体浸没离子注入装置,包括安装台、处理室、预处 理室以及耙架,安装台设有通口,处理室连接于 安装台的顶端,处理室设有进气口,处理室的底 端设有第一开口,预处理室滑动安装于安装台的 底端,预处理室设有第一真空口,预处理室的顶 端设有第二开口,预处理室能够滑动至使第二开 口与通口连通或者分离,耙架安装于预处理室 内,其中,安装台设有第一封门和/或处理室设有 第二封门,安装台的底面贴合于预处理室的顶面 和/或预处理室设有第三封门。本发明的便于连 A 续改性的等离子体浸没离子注入装置,能够极大 9 缩短改性以外所需的作业时间,有利于等离子体 0 2 6 浸没离子注入改性技术进一步在工业领域中得

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