一种针对工业纯铁的离子氮化热处理装置及其工艺
- 申请专利号:CN202110103099.8
- 公开(公告)日:2025-03-25
- 公开(公告)号:CN112779492A
- 申请人:烟台鑫洋电子有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112779492 A (43)申请公布日 2021.05.11 (21)申请号 202110103099.8 (22)申请日 2021.01.26 (71)申请人 烟台鑫洋电子有限公司 地址 264000 山东省烟台市福山区振华街 883号 (72)发明人 颜廷宪 姜世亮 (74)专利代理机构 青岛博浩知识产权代理事务 所(普通合伙) 37328 代理人 张慧芳 (51)Int.Cl. C23C 8/38 (2006.01) C21D 1/74 (2006.01) C21D 9/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 一种针对工业纯铁的离子氮化热处理装置 及其工艺 (57)摘要 本发明公开了一种针对工业纯铁的离子氮 化热处理装置及其工艺,涉及金属工件加工技术 领域。本发明包括氮化炉、注气泵和安装架,安装 架内设固定板和支撑旋板,两者均与安装架旋转 配合,氮化炉内设往复丝杠,并于驱动电机传动 配合。本发明中离子氮化处理装置通过在安装架 内设置可旋转的固定板和支撑旋板,并利用驱动 电机同时驱动夹紧的工件和氮化炉内的往复丝 杠,能够在辉光加热中使喷气嘴将氨气往复喷射 在旋转的工件表面,使得氮化处理更加均匀彻 底;通过对原有的离子氮化工艺进行改进,进一 A 步缩小并降低工作气压的控制范围,延长保温时 2 间,能够使纯铁材料工件的离子氮化处理过程更
最新专利
- 高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法公开日期:2025-04-11公开号:CN117778977A申请号:CN202311857011.7高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法
- 发布时间:2024-03-31 07:44:340
- 申请号:CN202311857011.7
- 公开号:CN117778977A
- 一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116770242A申请号:CN202310568969.8一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法
- 发布时间:2023-09-24 07:18:090
- 申请号:CN202310568969.8
- 公开号:CN116770242A
- 一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116463629A申请号:CN202310476236.1一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法
- 发布时间:2023-07-23 17:33:280
- 申请号:CN202310476236.1
- 公开号:CN116463629A
- 锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116426926A申请号:CN202310305818.3锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法
- 发布时间:2023-07-16 07:22:240
- 申请号:CN202310305818.3
- 公开号:CN116426926A
- 一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116397198A申请号:CN202310360438.X一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法
- 发布时间:2023-07-09 07:15:260
- 申请号:CN202310360438.X
- 公开号:CN116397198A
- 一种薄膜材料样品的高通量制备装置公开日期:2025-04-11公开号:CN116334573A申请号:CN202310341059.6一种薄膜材料样品的高通量制备装置
- 发布时间:2023-06-29 07:14:550
- 申请号:CN202310341059.6
- 公开号:CN116334573A