一种自清洁岩片真石漆及其制备方法
- 申请专利号:CN202310371750.9
- 公开(公告)日:2025-01-24
- 公开(公告)号:CN116375396A
- 申请人:天津德普威涂料有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116375396 A (43)申请公布日 2023.07.04 (21)申请号 202310371750.9 (22)申请日 2023.04.10 (71)申请人 天津德普威涂料有限公司 地址 301700 天津市武清区下朱庄街一经 路8号 (72)发明人 苏东亮 朱佰虎 侯世博 (51)Int.Cl. C04B 26/28 (2006.01) C04B 111/20 (2006.01) C04B 111/27 (2006.01) C04B 111/34 (2006.01) 权利要求书2页 说明书13页 (54)发明名称 一种自清洁岩片真石漆及其制备方法 (57)摘要 本申请公开了一种自清洁岩片真石漆及其 制备方法。真石漆包括白砂、彩砂、岩薄片和基 料,所述基料包括:水340‑354份,膨润土1.2‑1.8 份,羟乙基纤维素2‑3份,多功能助剂0.2‑0.8份, 卡松杀菌剂0.8‑1.2份,防冻剂4‑8份,纯丙乳液 100‑160份,成膜助剂6‑12份,消泡剂0.2‑0.8份, 增稠剂2.5‑3.5份,润湿剂1‑1.6份,硅酸钾15‑20 份,硅酸锂5‑7份,4‑5wt%的四硼酸钠溶液3‑5份。 本申请的真石漆具有超亲水和水下超疏油的性 能,能够阻挡绝大部分污垢附着在涂层表面,同 时还能利用雨水的冲刷清污垢,实现了自清洁的 功能,耐沾污能力较强,并且还具有较高的耐久 A 性。 6 9 3 5 7 3 6 1 1
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