一种真空镀膜机的蒸发装置
- 申请专利号:CN202310124435.6
- 公开(公告)日:2025-02-14
- 公开(公告)号:CN116288174A
- 申请人:铜陵市超越电子股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288174 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310124435.6 (22)申请日 2023.02.16 (71)申请人 铜陵市超越电子股份有限公司 地址 244000 安徽省铜陵市狮子山区纬一 路东段1111号(1#厂房、2#仓库) (72)发明人 刘同林 汪秀义 (74)专利代理机构 合肥东信智谷知识产权代理 事务所(普通合伙) 34143 专利代理师 余贵龙 (51)Int.Cl. C23C 14/30 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种真空镀膜机的蒸发装置 (57)摘要 本发明涉及真空镀膜技术领域,具体的说是 一种真空镀膜机的蒸发装置,包括基板,料盘组 件,设置于基板上方,所述料盘组件包括壳体、蒸 发盘和坩埚,蒸发盘转动连接于蒸发盘内部,多 组坩埚均匀设置在蒸发盘内 ;电子枪结构,设置 于基板侧壁,通电时形成电子击打通道,发出电 子束轰击坩埚内的原料。本发明设置有驱动组 件、龙门组件和闸门,在连续镀膜蒸发盘转动时, 闸门能够有效隔绝电子击打通道,保证蒸发盘不 受损伤,而随着坩埚逐渐接近电子枪结构,驱动 组件驱动龙门组件将闸门提升起,闸门被抬起, 电子击打通道畅通,电子束被释放对坩埚内的材 A 料进行击打,避免了电子束对蒸发盘造成损伤, 4 同时无需反复的对电子束进行通电和断电操作。 7 1 8 8 2 6 1 1
最新专利
- 高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法公开日期:2025-04-11公开号:CN117778977A申请号:CN202311857011.7高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法
- 发布时间:2024-03-31 07:44:340
- 申请号:CN202311857011.7
- 公开号:CN117778977A
- 一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116770242A申请号:CN202310568969.8一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法
- 发布时间:2023-09-24 07:18:090
- 申请号:CN202310568969.8
- 公开号:CN116770242A
- 一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116463629A申请号:CN202310476236.1一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法
- 发布时间:2023-07-23 17:33:280
- 申请号:CN202310476236.1
- 公开号:CN116463629A
- 锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116426926A申请号:CN202310305818.3锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法
- 发布时间:2023-07-16 07:22:240
- 申请号:CN202310305818.3
- 公开号:CN116426926A
- 一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116397198A申请号:CN202310360438.X一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法
- 发布时间:2023-07-09 07:15:260
- 申请号:CN202310360438.X
- 公开号:CN116397198A
- 一种薄膜材料样品的高通量制备装置公开日期:2025-04-11公开号:CN116334573A申请号:CN202310341059.6一种薄膜材料样品的高通量制备装置
- 发布时间:2023-06-29 07:14:550
- 申请号:CN202310341059.6
- 公开号:CN116334573A