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层叠体的制造方法、高分子薄膜的制造方法及层叠体2025

2023-10-01 07:11:38 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202280010180.4
  • 公开(公告)日:2025-05-23
  • 公开(公告)号:CN116829272A
  • 申请人:东丽株式会社
摘要:提供高效且均匀地制造具有形成有多个特定形状的贯通孔的高分子皮膜的层的层叠体的方法。本发明的层叠体的制造方法中,层叠体具有形成有多个特定形状的贯通孔的高分子皮膜的层,制造方法中,配置在一侧的面形成有多个凹部、且前述凹部的开口形状为前述高分子皮膜的贯通孔的特定形状的模具,在前述模具的形成有凹部的面涂布涂布材料,在涂布于前述凹部以外的部分的涂布材料残留于模具的表面的同时,使涂布于前述凹部部分的涂布材料落入凹部之中,将前述涂布材料干燥从而形成与前述凹部对应的部分成为贯通孔的高分子皮膜,隔着前述高分子皮膜将前述支承体按压于前述模具,将前述高分子皮膜与前述支承体一起从前述模具剥离。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116829272 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202280010180.4 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2022.01.17 专利代理师 牛蔚然 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2021-017070 2021.02.05 JP B05D 1/28 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.07.14 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2022/001355 2022.01.17 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/168578 JA 2022.08.11 (71)申请人 东丽株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 富永善章 近藤刚 森冈聪子  野田洋平 箕浦洁  权利要求书1页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 层叠体的制造方法、高分子薄膜的制造方法 及层叠体 (57)摘要