层叠体的制造方法、高分子薄膜的制造方法及层叠体2025
- 申请专利号:CN202280010180.4
- 公开(公告)日:2025-05-23
- 公开(公告)号:CN116829272A
- 申请人:东丽株式会社
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116829272 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202280010180.4 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2022.01.17 专利代理师 牛蔚然 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2021-017070 2021.02.05 JP B05D 1/28 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.07.14 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2022/001355 2022.01.17 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/168578 JA 2022.08.11 (71)申请人 东丽株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 富永善章 近藤刚 森冈聪子 野田洋平 箕浦洁 权利要求书1页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 层叠体的制造方法、高分子薄膜的制造方法 及层叠体 (57)摘要
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